Nanoimprint Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie, kurz: NIL, ist ein innovatives Verfahren zur Replikation von Mikrostrukturen und Nanostrukturen, insbesondere auch auf großen Flächen. Mit modernsten Anlagen und umfassendem Know-how aus namhaften Projekten ist temicon Ihr kompetenter Partner.
 

Nanoimprint Molds / Stamps für Ihre Produktideen

Ausgangspunkt für den Prozess der Nanoimprint Lithographie ist das Imprint-Werkzeug. Das Werkzeug dient der Vervielfältigung der Nano- oder Mikrostrukturen. Es enthält die Form der Strukturen, die auf dem Endprodukt erscheinen werden. Somit stellt das Imprint-Werkzeug einen Stempel dar. Das Werkzeug wird als 'Mold' oder 'Stamp' bezeichnet.

temicon hat langjährige Erfahrung in der Entwicklung, dem Prototyping und der Anwendung von Nanoimprint Molds für die Serienfertigung von Oberflächenstrukturen für Anwendungen in Bereichen wie Display, Lighting, Solar oder Optics.
 

Rolle-zu-Rolle Serienproduktion bei temicon

Die Herstellung mikrostrukturierter oder nanostrukturierter Oberflächen mittels Nanoimprint Lithographie erfolgt auf unseren modernsten Rolle-zu-Rolle-Anlagen. Dieser Herstellungsprozess ermöglicht eine besonders kostengünstige und schnelle Serienproduktion.

temicon nutzt im Speziellen das Verfahren der UV-Nanoimprint-Lithographie (UV-NIL). Hierbei wird eine UV-härtende Polymerschicht verwendet.

Während die zu strukturierende Oberflläche mit der zunächst noch ungehärteten Polymerschicht auf der Rolle-zu-Rolle-Anlage Kontakt zum Imprint-Werkzeug erhält, werden mittels UV-Licht die Nanostrukturen oder Mikrostrukturen auf die Oberfläche übertragen.

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