Rolle-zu-Rolle

Große Bandbreite – vielseitige Produktlösungen

Sie suchen einen Partner für die großflächige und kostengünstige Nanostrukturierung und Mikrostrukturierung?
Profitieren Sie als unser Kunde von unseren einzigartigen Rolle-zu-Rolle-Produktionslinien und dem umfassenden Know-how eines Technologieführers im Nanoimprinting-Verfahren.

temicon setzt Ihre Produktanforderungen in die Tat um. Von der ersten Machbarkeitsstudie bis hin zur industriellen Massenherstellung. Für die kostengünstige Serienproduktion von nanostrukturierten und mikrostrukturierten Folien und Platten halten wir je nach Anforderung unterschiedliche Rolle-zu-Rolle- oder Rolle-zu-Platte-Anlagen bereit.

Mit dieser Technologie bedienen wir zum Beispiel folgende Branchen:

• Display
• Solar
• Lighting

In der englischsprachigen Fachliteratur wird der roll-to-roll-Prozess mit R2R abgekürzt. Die spezielle temicon-Technologie wird als R2R NIL bezeichnet: Die Kombination von "roll-to-roll" mit "Nano-Imprint-Lithography" (NIL). Der Rolle-zu-Rolle Herstellungsprozess mit mehreren Walzen ermöglicht eine kostengünstige Nanostrukturierung oder Mikrostrukturierung flexibler Oberflächen mit hohem Durchsatz.

Beim UV-Nanoimprint erfolgt die Replikation von Mikrostrukturen oder Nanostrukturen mit Hilfe eines UV-härtenden Polymers. Diese auf das Substrat aufgetragene UV-härtende Kunstharzschicht wird beim Rolle-zu-Rolle-Prozess als Zwischenschicht zwischen dem Stempel und dem Substrat angewendet, um die Folie zu strukturieren.

Die Rolle-zu-Rolle-Beschichtung ermöglicht eine nahtlose Replikation und gleichbleibende Schichtdicke. Das verwendete Imprint-Werkzeug kann für spätere Nanoimprinting-Produktion erneut eingesetzt werden.
 

Nano- und Mikrostrukturen nach Wunsch

Es ist möglich, Strukturen mit Größen von wenigen Nanometern bis zu 200 µm abzuformen. Es können Folien mit Dicken zwischen 36 µm und 250 µm und einer Breite von bis zu 1150 mm eingesetzt werden. Dabei beträgt die maximale Strukturbreite 1050 mm.

Neben dem Rolle-zu-Rolle-Prozess (R2R) bieten wir Nanoimprinting als Rolle-zu-Platte-Prozess (R2P) an. Konkret bedeutet das: Neben Folien können auch starre Materialen bei temicon mittels Nanoimprint Lithographie strukturiert werden.

Wie beim Rolle-zu-Rolle-Verfahren dient auch beim R2P NIL-Verfahren ein durch UV-Licht aushärtendes Kunstharz als Zwischenschicht zum lithographischen Abdruck der Nanostrukturen.

Es können starre Oberflächen mit Abmessungen  bis zu 1000 mm x 1600 mm strukturiert werden. Die maximale Strukturbreite beträgt dabei 1050 mm. Strukturgrößen von wenigen Nanometern sind ebenso möglich wie Strukturen im Mikrometerbereich.

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